CHI POWERPLUS NOURISH Palsam kuivadele ja nõrgestatud juustele 946ml

Niisutav juuksepalsam Powerplus sarjast on suurepärane juuksehooldustoode, mis annab intensiivse niisutuse ja toitumise nii kuivadele, tuhmidele kui ka nõrgenenud juustele. See ainulaadne palsam on osa CHI kaubamärgist, mis on tuntud oma uuenduslike lahenduste ja tugevdavate koostisosade poolest. Palsami koostis sisaldab rikkalikult niisutavaid koostisosi, mis tungivad sügavale juuksestruktuuri, taastades selle elastsuse ja terve välimuse. Juuksed muutuvad pehmeks, siledaks ja läikivaks. CHI POWERPLUS palsam aitab tugevdada juukseid seestpoolt, vähendades murdumist ja minimeerides juukseotste lõhenemist. Toode kaitseb juukseid välistegurite kahjulike mõjude eest, nagu kuumaõhu kuivatamine, sirgendamine või sage värvimine. Palsami ohutu koostis ei sisalda kahjulikke aineid nagu sulfaadid, parabeenid ja gluteen, mistõttu sobib see tundliku peanahaga inimestele. Tootel on õrn ja meeldiv lõhn, mis jätab juustele pikaks ajaks värske tunde.

•          Tugevdab ja toidab juukseid
•          Leevendab peanaha pinge- ja kuivustunnet
•          Koostis rikastatud nõgese, punase ristiku, tüümiani ja teiste ürtide ning mineraalsooladega
•          Parandab vereringet
•          Eemaldab toksiinid ja rasujäägid
•          Sisaldab valke ja vitamiine
•          pH: 3,0-4,0

Kasutamine: Kanna sobiv kogus kätele ja jaota ühtlaselt niisketele šampooniga pestud juustele. Loputage hoolikalt.

Tulemus: Juuksed on toidetud ja läikivad, naha seisund paranes.

CHI on Farouk Systems kontserni kuuluv kaubamärk, mis toodab ka Poolas tuntud BioSilk kosmeetikat. Ettevõtte nimi tuleneb asutaja nimest - juuksur Farouk Shami. CHI pakub professionaalseid tooteid juuste hooldamiseks, kujundamiseks ja värvimiseks, samuti soengutööriistu. Brändi eristab uuenduslikkus. CHI on lühend sõnast Cationic Hydration Interlink – see on NASA avastustest inspireeritud tehnoloogia, mida kasutatakse CHI juuksekujundusvahendites, mis muudab juuksed pehmeks ja siledaks keraamiliste katete poolt eralduvate ioonide mõjul.